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       真空鍍膜設備的沉積方式主要涵蓋以下幾種：

       1、真空蒸鍍：這是PVD法中使用很早的技術。在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發，然后沉積在基體表面上。蒸發的方法常用電阻加熱、電子束轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然后沉積在基體表面。

       2、濺射鍍膜：在充氬(Ar)氣的真空條件下，使氬氣進行輝光放電，氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar+)，氬離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。

       3、離子鍍：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓，這樣離子沉積于基體表面形成薄膜。

       4、真空卷繞鍍膜：一種利用物理的氣相沉積方法在柔性基體上連續鍍膜的技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

       5、束流沉積鍍：結合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術的離子表面復合處理技術，利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有良好特性薄膜的技術。

       此外，根據蒸發方式的不同，真空蒸鍍還可以分為電阻蒸發、電子束蒸發和感應加熱蒸發等多種方式。這些沉積方式各有其特點和適用場景，可以根據具體的鍍膜需求和條件進行選擇。
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